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プラズマ洗浄装置を活用する方法について

プラズマ洗浄装置は高品質な半導体や電子機器などの精密機器を効率的に製造したい場合に使われています。半導体などの精密機器は製造過程において有機物や無機物による様々な汚れが生じます。品質劣化を防ぐにはウェット洗浄やドライ洗浄を何度も繰り返して汚れを取り除かなければなりません。ウェット洗浄は塩酸やアンモニア、過酸化水素水や純水を使って汚れを取り除きます。

洗浄槽を薬液で満たして対象物を浸す方法は静電気が発生するリスクがありません。細部まで洗浄でき超音波やバブリングを併用すればさらに効果が高まります。対象物を水平に置いて回転させ、スプレー状の薬液を吹きかける方法は再汚染が起こりにくいのがメリットです。浸す方法と比べると短時間で作業が完了し薬液の量も少量で済みます。

ウェット洗浄はドライ洗浄と比べると簡単な方法ですが、薬液を洗い流して乾燥させるため時間がかかります。また高価な超純水を使用するためコストがかかってしまうというデメリットも存在します。プラズマ洗浄装置はスタッフが扱い方を習得するまで多少時間がかかるものの、薬液を使わないので効率的でコストを抑えることができます。この装置を活用するには発生する汚れの状況に応じて最適な処理方式を選ぶ必要があります。

プラズマ洗浄装置には主にアルゴンガスを使うタイプと酸素ガスを使うタイプが存在します。前者は加速したイオンを有機物や無機物に衝突させて弾き飛ばします。後者は原子が有機物と化学反応を起こして水分子や二酸化炭素に変えます。汚れの発生状況に応じてこれらを使い分けると精密機器の品質と生産性が大幅に向上します。

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