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効率的に不純物を除去するプラズマ洗浄装置について

プラズマ洗浄装置はドライ洗浄によって精密機器に付着した細かな汚れを取り除きます。半導体や電子機器などを製造する過程では有機物や無機物による様々な不純物が発生します。品質を向上させるには何らかの方法で細かな汚れを取り除かなければなりません。精密機器に付着した汚れを除去する方法には、大きく分けてドライ洗浄とウェット洗浄の2種類が存在します。

製品の品質だけでなく生産性も同時に向上させたい場合には、薬液を使わないドライ洗浄の方が有利です。ウェット洗浄はアンモニアや塩酸、過酸化水素水や純水を使って細かな汚れを取り除きます。薬液を使う場合には対象物を浸したりスプレー状にして吹きかけたりします。前者の方法だと静電気が発生するリスクがなく細かな部分まで洗うことが可能で、超音波やバブリングを併用すれば効果をさらに高めることができます。

後者の方法だと薬液の消費量を抑えつつ効率的に汚れを取り除くことができ、再汚染も起こりにくいというメリットがあります。ウェット洗浄は超純水を使うためコストが高くなり、薬液をリンスで洗い流して乾燥させるのでドライ洗浄と比べて時間がかかってしまいます。プラズマ洗浄装置のように薬液を使わない方法ならば、作業時間を大幅に短縮できるので品質だけでなく生産性も向上します。半導体や電子機器は完成するまでに何度も洗浄作業を繰り返して汚れを除去しなければなりません。

プラズマ洗浄装置は効率的に汚れを取り除くことができるので、多くの工場で採用されています。

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