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プラズマ洗浄装置が広く普及している背景について

半導体やレンズ、電子機器などを製造するには有機物や無機物による様々な不純物を除去しなければなりません。精密機器の表面に付着した細かな不純物を除去する方法は、ウェット洗浄とドライ洗浄の2種類に分類できます。ウェット洗浄とはアンモニアや塩酸、過酸化水素水や純水を使う方法です。薬液に対象物を浸したりスプレー状にして吹きかけたりして不純物を取り除きます。

ウェット洗浄は比較的簡単に行うことができますが、超純水を使うためコストがかかります。また薬液をリンスで洗い流して乾燥させるため、1回あたりの洗浄作業に時間がかかるというデメリットも存在します。精密機器は完成までに何度も洗浄作業を繰り返すので、ウェット洗浄では生産性を向上させることができません。時間的に余裕があり比較的簡単な方法で不純物を取り除きたい場合にはウェット洗浄が適しています。

精密機器の品質と生産性を同時に向上させたい場合は、ドライ洗浄を行うプラズマ洗浄装置を使うのが効果的です。プラズマ洗浄装置は、アルゴンガスや酸素ガスを減圧されたチャンバー内に導入して高周波電力で電離します。気体にエネルギーを与え続けて分子から原子が離れ、最終的にイオンと電子に分かれた状態がプラズマです。アルゴンガスを使うタイプはイオンを加速して有機物や無機物に衝突させて弾き飛ばします。

酸素ガスを使うタイプは酸素分子から離れた原子が有機物を化学反応で水分子や二酸化炭素に変えます。状況に応じて最適なタイプのプラズマ洗浄装置を使うと品質と生産性が大幅に向上するため、精密機器を製造する工場に広く普及しています。

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